一种纳米级研磨抛光片

授权

摘要

本实用新型公开了一种纳米级研磨抛光片，包括抛光片本体，所述抛光片本体的外侧开设有排屑槽，所述抛光片本体的内侧设置有通风孔，所述通风孔贯穿抛光片本体的两侧，所述抛光片本体内侧的中部设置有安装孔；抛光片本体包括透明橡胶及沙砾层，沙砾层内侧设置有玻璃纤维及二氧化硅，抛光片本体的外侧设置有凸起，便于更大面积的与抛光物接触，更好的提高二氧化硅的脱落，便于使二氧化硅参与研磨作用，提高研磨效果，抛光片本体内侧设置有通风孔，通风孔为纺锥形，避免在研磨的过程中，抛光片与抛光物摩擦生热，导致抛光片温度过高损坏。

基本信息

专利标题：

一种纳米级研磨抛光片

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921583692.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-23

授权号：

CN211029667U

授权日：

2020-07-17

发明人：

梁志恒

申请人：

广州市三研磨材有限公司

申请人地址：

广东省广州市番禺区钟村镇屏山二村荔枝岗

代理机构：

广州速正专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

钟水祥

优先权：

CN201921583692.1

主分类号：

B24D13/14

IPC分类号：

B24D13/14 B24D13/18