一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置
授权
摘要
本实用新型公布了一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置，包括底座、冷凝器和阀门，所述底座的右侧顶端固定安装有冷凝器，且冷凝器的顶端左侧固定安装有第一通管，所述底座的内部开设有收集槽，所述底座的左侧固定安装有出液管，且出液管的左端外壁固定安装有阀门，所述底座的左侧顶端固定安装有支撑管，且支撑管的顶端固定安装有冷凝罐，所述冷凝罐的内部顶端固定安装有支撑杆，且支撑杆的底端固定安装有挡块。本实用新型设置有集灰槽和通孔，可以将气体中的灰尘进行过滤，套筒和安装块可以将集灰槽从进气管的内部脱离，方便对灰尘进行清洗，扇叶可以将气体与冷凝气体进行混合，使冷凝的效果更加好，更加快速。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921632763.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-28
授权号 ：
CN211561895U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
王天奇
申请人 ：
天津市晓川过滤设备发展有限公司
申请人地址 ：
天津市蓟州区侯家营镇祥福庄村西乡村公路南侧
代理机构 ：
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 ：
郑丰平
优先权 ：
CN201921632763.2
主分类号 ：
B01D5/00
IPC分类号 ：
B01D5/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D5/00
蒸气的冷凝；用冷凝法回收挥发性溶剂
法律状态
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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