本实用新型涉及薄片类介质处理领域，公开一种薄片类介质处理装置。该装置包括底板、调节件和定位件，其中底板用于支撑薄片类介质，底板上设有第一长槽和定位部，第一长槽的长度沿薄片类介质的宽度方向延伸，定位部包括多个卡槽，多个卡槽沿薄片类介质的宽度方向排布；调节件与第一长槽滑动连接；定位件与调节件活动连接，定位件包括卡台，定位件具有第一位置和第二位置，当定位件位于第一位置时，卡台与多个卡槽中的一个卡接，使调节件与底板之间的相对位置固定，当定位件位于第二位置时，卡台与卡槽分离，调节件能够沿第一长槽滑动。本装置在使用时能使调节件相对于底板的位置被锁定，解决了现有调节件存在的位置不稳定、精确性差的问题。