光源装置和投影系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种光源装置和投影系统，涉及投影应用的技术领域，包括晶体和匀光元件，激发光源位于晶体的一侧，匀光元件位于晶体的另一侧；晶体，用于对入射的特定波段的光进行波长转换，对其它波段的光进行透射；激发光源发出的激发光，经晶体的波长转换作用，得到受激发光；受激发光和激发光经匀光元件的匀光作用后进行输出，根据晶体的特性，采用静态激发方式，无需结合于运动载体上的荧光粉进行激发，提高激发光透射率和受激发光产生效率，体积较小，便于广泛应用。
基本信息
专利标题 ：
光源装置和投影系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921665684.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-30
授权号 ：
CN210323743U
授权日 ：
2020-04-14
发明人 ：
葛明星陈龙
申请人 ：
无锡视美乐激光显示科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市宜兴经济开发区杏里路10号宜兴光电产业园3幢101室
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李莎
优先权 ：
CN201921665684.1
主分类号 ：
G03B21/20
IPC分类号 ：
G03B21/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机；有关附件
G03B21/14
零部件
G03B21/20
灯泡箱
法律状态
2020-04-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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