光源系统及投影装置

授权

摘要

本发明涉及一种光源系统及具有该光源系统的投影装置。该光源系统包括：第一光源，用于出射第一激光；第二光源，用于出射第二激光；及波长转换装置，波长转换装置包括基板、散光片及驱动件，基板与散光片的中心轴位于同一直线上并在驱动件的驱动下围绕中心轴同步旋转；其中，波长转换装置还包括位于基板同一侧且分段设置的反射区及波长转换区，第一光源出射的第一激光依时序入射至反射区及波长转换区；第一光源出射的第一激光入射至波长转换区能够激发产生荧光，第二光源出射的第二激光经过散光片的散射后与相同颜色的荧光混合出光。相比于现有技术，该光源系统能够提升光源亮度并缩小占用空间。

基本信息

专利标题：

光源系统及投影装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111381425A

申请号：

CN201811639443.X

公开（公告）日：

2020-07-07

申请日：

2018-12-29

授权号：

CN111381425B

授权日：

2022-04-15

发明人：

戴达炎周浩宋霞李屹

申请人：

深圳光峰科技股份有限公司

申请人地址：

广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦20-22楼

代理机构：

深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司

代理人：

唐芳芳

优先权：

CN201811639443.X

主分类号：

G03B21/20

IPC分类号：

G03B21/20