散射元件、光源装置及投影系统

授权

摘要

本实用新型提出一种散射元件、光源装置及投影系统，涉及光学设备技术领域。其中，该散射元件包括透镜单元和散射单元，透镜单元的一面为平面，散射单元设置于平面上；透镜单元的另一面具有朝向散射单元凹陷的凹陷部。该散射元件采用在透镜单元的平面侧增加散射单元，将传统技术中的间隔固定设置的凹透镜和散射片取代，节省了光源结构的占用空间，使得光源结构的体积减小，大大简化了光源结构；此外，该散射元件减少了光线的透过路径和元件面，有利于提高光源效率。

基本信息

专利标题：

散射元件、光源装置及投影系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021191180.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-23

授权号：

CN212112110U

授权日：

2020-12-08

发明人：

葛明星陈龙吴政超

申请人：

无锡视美乐激光显示科技有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市宜兴经济技术开发区杏里路10号宜兴光电产业园3幢101室

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

张磊

优先权：

CN202021191180.3

主分类号：

G03B21/20

IPC分类号：

G03B21/20