一种双向进出管式PECVD设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种双向进出管式PECVD设备，包括至少一个设备进口和一个设备出口，自设备进口朝向设备出口依次设置放舟部、预热部、PECVD工艺反应炉管、冷却部和取舟部，放舟部将石墨舟外部的石墨舟抓取并收取到放舟部，放舟部将石墨舟放至预热部进行预热，预热完成后石墨舟移动到PECVD工艺反应炉管进行反应，结束后再到冷却部冷却，冷却结束后通过取舟部将石墨舟取出设备。采用本实用新型的设计，采用双向进出的模式进行PECVD反应，当进行PECVD反应的同时能够进行预热操作，大大加快了生产工艺的进程。
基本信息
专利标题 ：
一种双向进出管式PECVD设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921668142.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-08
授权号 ：
CN211170884U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
朱旭东史孟杰
申请人 ：
无锡嘉瑞光伏有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市宜兴市金张渚工业区
代理机构 ：
南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
张超
优先权 ：
CN201921668142.X
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/513 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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