一种密封装置、容器及工件处理系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种密封装置、容器及工件处理系统,其中密封装置包括至少一个密封机构,密封机构包括第一驱动机构、至少两组第一密封组件和至少一组第二密封组件;任一组第一密封组件包括至少一个第一密封部件;任一组第二密封组件包括至少一个第二密封部件;第一密封组件在滑行通道内与第二密封组件同步滑动,且第一密封部件与第二密封部件一一对应并且相互面对的端面密封抵接;至少一组第一密封部件滑动抵接在第一区域所在密封通道的内壁上。此结构的密封装置,通过第一密封组件与第二密封组件密封抵接及第一密封组件与密封通道内壁密封滑动连接,将密封通道内的溶液大部分阻挡在容器的内腔中,使得容器内的溶液的液面下降幅度进一步缩小。
基本信息
专利标题 :
一种密封装置、容器及工件处理系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921738105.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-16
授权号 :
CN211445951U
授权日 :
2020-09-08
发明人 :
危勇军方志斌
申请人 :
昆山东威科技股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市巴城镇东定路东侧
代理机构 :
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 :
徐律
优先权 :
CN201921738105.1
主分类号 :
C25D17/00
IPC分类号 :
C25D17/00 C23G3/00 C23G5/04
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2020-09-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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