本实用新型公开了一种新型光刻膜加工用表面清洗烘干设备，包括真空供气系统与垫脚，所述真空供气系统的下端的左右两侧各设置有一个垫脚，所述真空供气系统与垫脚通过螺栓固定连接，所述真空供气系统的上端设置有反应腔室，本实用新型中通过将传统的单层的箱门更改为现有的双层的箱门结构，通过该双层的箱门的结构可以使得在进行工作的时候可以有效的阻隔在工作时散发的放射源的作用，本实用新型中在第一柜门与第二柜门的内侧设置有除湿机构，这样在进行对工件的清洗与烘干的的工作中可以通过该除湿机构对反应腔室内部的环境进行除湿的作用，从而避免了由于湿气无法及时排出导致对工件造成损坏的现象的问题。