一种真空炉内分布均匀的耐高温加热装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种真空炉内分布均匀的耐高温加热装置,包括炉体和活动盖,所述炉体的内部呈真空状,且炉体分为内壁和外壁,所述炉体的内壁中间处固定有钨丝环,所述炉体的前端面中间处固定有控制板,所述控制板背离炉体的一端上端中间处镶嵌有显示屏,所述控制板位于显示屏的下端中间处镶嵌有键盘,所述控制板位于炉体的一侧下端连通安装有连接管,且连接管共设有两个,所述连接管背离控制板的一端通过炉体延伸至内壁的中间处,所述控制板通过导线与内壁的钨丝环相连接,且连接导线位于连接管的内部,所述炉体的下端环形阵列固定有支撑柱,且支撑柱共设有四个。本实用新型有利于对对工作人员进行保护,以及耐高温的优点。

基本信息
专利标题 :
一种真空炉内分布均匀的耐高温加热装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921759570.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-21
授权号 :
CN211120683U
授权日 :
2020-07-28
发明人 :
程武朝孙淑平
申请人 :
郑州虹飞装备制造有限公司
申请人地址 :
河南省郑州市荥阳市城关乡杨垌村
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921759570.3
主分类号 :
F27D11/02
IPC分类号 :
F27D11/02  F27D19/00  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D11/00
炉内或炉上电热元件的配置
F27D11/02
欧姆电阻加热的
法律状态
2020-07-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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