ALD真空炉加热结构
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摘要

本实用新型公开了一种ALD真空炉加热结构,包括若干加热模组以及固定组件,所述加热组件包括加热盘管以及固定板,加热盘管贴合在固定板上,加热组件的一端固定在其中一个炉门上,固定组件多个包括筋条,筋条位于加热腔体内侧靠近另一个炉门;每个筋条包括两个折板,两个折板互相垂直;固定板与筋条一一对应,固定板的端部贴合在筋条的其中一个折板上,在该筋条的另一个折板上设置有螺孔,通过螺孔在该折板上设置一个连接块,连接块呈“L”型,连接块上设置有螺钉和螺母组件,螺钉可旋紧从而将固定板和对应的折板抵住从而进行固定。活动快安装拆卸均较为方便,活动块具有可调节性,保证加热模组能够在需要的位置有效固定。

基本信息
专利标题 :
ALD真空炉加热结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020392280.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-24
授权号 :
CN213203192U
授权日 :
2021-05-14
发明人 :
安锦湖姜涛李世磊
申请人 :
无锡市正罡自动化设备有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市锡山经济开发区厚桥街道安泰二路2882号
代理机构 :
北京挺立专利事务所(普通合伙)
代理人 :
沃赵新
优先权 :
CN202020392280.6
主分类号 :
C23C16/455
IPC分类号 :
C23C16/455  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-05-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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