用于真空炉的测温结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于真空炉的测温结构，包括：供盖设于真空炉顶部开口的盖体；以及对应穿设于盖体且长度与真空炉相匹配的若干电偶，且电偶倾斜设置，使得若干电偶的测温端相互靠近，从而减小电偶之间由距离差异造成的误差。本实用新型有效地解决了电偶读数差异大的问题，降低三个电偶之间的读数误差，使得测试数据更加精确。
基本信息
专利标题 ：
用于真空炉的测温结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921188276.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-26
授权号 ：
CN210293481U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
李琳曾爱群
申请人 ：
益发施迈茨工业炉（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市奉贤区芝云路88号一号楼三层
代理机构 ：
上海唯源专利代理有限公司
代理人 ：
曾耀先
优先权 ：
CN201921188276.1
主分类号 ：
G01K7/10
IPC分类号 ：
G01K7/10
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01K
温度测量；热量测量；未列入其他类目的热敏元件
G01K7/00
以利用直接对热敏感的电或磁性元件为基础的温度测量
G01K7/01
利用具有PN结的半导体元件
G01K7/10
为修正参数，例如，引线长度的补偿装置
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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