本实用新型公开了一种真空炉的导流结构，包括竖管，所述竖管的下端安装有锥形盘，所述锥形盘的内部设置有四个上下并排的分流盘，所述分流盘包括外盘、中盘和内盘，所述外盘与中盘之间和中盘与内盘之间均设置为分流腔室，所述分流盘的下方设置有锥形导流筒，所述锥形导流筒包括外筒、中筒和内筒，所述外筒与中筒之间和中筒与内筒之间均设置为气体腔室，所述锥形盘的下端与气体腔室对应的位置安装有支管，本实用新型内部的导流盘与锥形导流筒可进行分流，并且进行四次分流，在层层分流下能够保证喷出的气体均匀，本实用新型设置了驱动装置，驱动装置可使得喷出的高压氮气为旋转状态，能够进一步保证氮气的喷出较为均匀。