一种电波暗室用地面接口装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种电波暗室用地面接口装置，包括电波暗室、固定面板、防护机构和固定机构，所述防护机构位于固定面板的一侧外表面，所述防护机构包括防护面板，所述防护面板的一侧外表面固定连接有插孔器，所述插孔器的一侧外表面开设有插孔，所述插孔器的上端一侧外表面开设有卡槽，所述固定面板的顶端外表面开设有收纳槽；通过设置的防护面板、卡槽、插孔器、插孔、卡扣、连接柱、收纳槽，便于保护接口装置的内部零件，减少占用空间，同时防止工作人员被突出来的接口装置绊倒，通过设计的液压杆设计，方便盖板升起和降落。
基本信息
专利标题 ：
一种电波暗室用地面接口装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921769575.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-17
授权号 ：
CN211856737U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
沈宏伟罗宇翔石磊叶勇熊伟王淑慧陈美璇曹智鑫
申请人 ：
芮锋射频技术（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区自由贸易试验区盛荣路88弄1号5层06室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921769575.4
主分类号 ：
G01R29/08
IPC分类号 ：
G01R29/08 G01R1/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01R
测量电变量；测量磁变量
G01R29/00
不包括在G01R19/00至G01R27/00各组中的电量的测量或指示装置
G01R29/08
电磁场特性的测量
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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