可调节屏蔽装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种可调节屏蔽装置，所述可调节屏蔽装置包括：一屏蔽板，所述屏蔽板具有一镂空的圆心部以及若干镂空的圆弧部，所述圆弧部设置在所述圆心部的外围；若干遮挡板，所述遮挡板分别与各所述圆弧部对应，且所述遮挡板相对于所述圆弧部移动从而调节对圆弧部的遮盖面积。通过本实用新型的圆弧部的设置可以保证晶圆镀层厚度的均匀性。并且通过遮挡板可以调节屏蔽板上镂空部位相对于整个阴极工件的位置，从而具有广泛的通用性。
基本信息
专利标题 ：
可调节屏蔽装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921794562.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-23
授权号 ：
CN211142201U
授权日 ：
2020-07-31
发明人 ：
史蒂文·贺·汪
申请人 ：
新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请人地址 ：
上海市松江区思贤路3600号
代理机构 ：
上海弼兴律师事务所
代理人 ：
王卫彬
优先权 ：
CN201921794562.2
主分类号 ：
C25D7/12
IPC分类号 ：
C25D7/12 C25D17/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D7/00
以施镀制品为特征的电镀
C25D7/12
半导体
法律状态
2020-07-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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