一种混酸系统
授权
摘要
本实用新型提供一种混酸系统。所述混酸系统用于半导体材料蚀刻，包括用于容纳包含磷酸和多种添加剂的混合酸液的第一混酸槽，所述第一混酸槽与第一磷酸管路连接，所述第一磷酸管路通过中央供酸系统将异地存储的符合蚀刻要求的磷酸供应至所述第一混酸槽，所述混酸系统进一步包括：多个贮液槽，用于分别容纳所述多种添加剂，其中所述多个贮液槽的每一个通过相应的添加剂管路与所述第一磷酸管路连通；第二混酸槽，所述第二混酸槽通过混酸管路与所述第一混酸槽连接，并配置为接收来自所述第一混酸槽中的混合酸液，其中所述第二混酸槽还具有将所述混合酸液提供至用户的出口。
基本信息
专利标题 ：
一种混酸系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921795973.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-23
授权号 ：
CN211612524U
授权日 ：
2020-10-02
发明人 ：
李绪廖昌洋熊泰贻陈浩杨玉辉
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
李梅香
优先权 ：
CN201921795973.3
主分类号 ：
B01F13/10
IPC分类号 ：
B01F13/10 B01F15/02 B01F15/04 B01F15/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01F
混合，例如，溶解、乳化、分散
B01F13/00
其他混合机；混合设备，包括不同混合机的组合
B01F13/10
混合设备，包括不同混合机的组合
法律状态
2020-10-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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