共差模分离装置及干扰隔离器
授权
摘要
本实用新型涉及一种共差模分离装置及干扰隔离器,属于干扰屏蔽技术领域,该共差模分离装置通过设置共模分离组件,使得差模发射电流受到抑制,分离出共模电流;而通过设置差模分离组件,使得共模发射电流受到抑制,分离出差模电流,以此将共模和差模干扰进行分离,从而根据共模和差模特征,作出有效的干扰抑制,解决了现有技术中干扰隔离力度差、干扰强的技术问题。
基本信息
专利标题 :
共差模分离装置及干扰隔离器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921841918.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-29
授权号 :
CN211321216U
授权日 :
2020-08-21
发明人 :
杨婉孙晋栋区建昌朱青青冯桂山张俊
申请人 :
北京泰派斯特科技发展有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区永定路88号11层B08
代理机构 :
北京细软智谷知识产权代理有限责任公司
代理人 :
刘冬梅
优先权 :
CN201921841918.3
主分类号 :
H02M1/44
IPC分类号 :
H02M1/44
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法律状态
2020-08-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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