共差模分离装置及干扰隔离器
授权
摘要
本实用新型涉及一种共差模分离装置及干扰隔离器，属于干扰屏蔽技术领域，该共差模分离装置通过设置共模分离组件，使得差模发射电流受到抑制，分离出共模电流；而通过设置差模分离组件，使得共模发射电流受到抑制，分离出差模电流，以此将共模和差模干扰进行分离，从而根据共模和差模特征，作出有效的干扰抑制，解决了现有技术中干扰隔离力度差、干扰强的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
共差模分离装置及干扰隔离器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921841918.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-29
授权号 ：
CN211321216U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
杨婉孙晋栋区建昌朱青青冯桂山张俊
申请人 ：
北京泰派斯特科技发展有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区永定路88号11层B08
代理机构 ：
北京细软智谷知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
刘冬梅
优先权 ：
CN201921841918.3
主分类号 ：
H02M1/44
IPC分类号 ：
H02M1/44
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法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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