一种液体循环机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种液体循环机构，包括：水槽，水槽一侧设置有开口；进水管，进水管的进口端置于水槽槽体内；出水管，出水管向相对两侧延伸出喷水管，且喷水管与出水管垂直，喷水管置于水槽槽体内；其中，喷水管的横截面是不封闭弧形，不封闭弧形向水槽中间位置斜向下开口；过滤装置，过滤装置设置于进水管与出水管之间并保持连通。通过上述机构中倒“T”型设计的喷水管，在进行化学镀工艺时，本机构的喷水管可以使液体循环得更充分，并减少循环管道与水槽槽壁或槽底的接触，使化学镀工艺中，氧化还原药水能够得到充分的循环，减少循环死角，避免局部金属析出，提高氧化还原药水利用率，并提高化学镀效率。
基本信息
专利标题 ：
一种液体循环机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921842270.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-28
授权号 ：
CN211036100U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
石东
申请人 ：
深南电路股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区侨城东路99号
代理机构 ：
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黎坚怡
优先权 ：
CN201921842270.1
主分类号 ：
C23C18/00
IPC分类号 ：
C23C18/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18/00
通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆；接触镀
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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