一种兆声波清洗机的槽体结构
授权
摘要
本实用新型公开一种兆声波清洗机的槽体结构，包括外PP槽壁、兆声挡水板、外槽安装座、内槽壁、石英缸斜底、石英缸槽、花篮、兆声发生器和兆声保护盒，所述外PP槽壁包含四个侧壁和一个底壁形成长方体外槽，所述长方体外槽相对的两个内槽壁上固定安装有支撑板一和支撑板二，所述支撑板一和所述支撑板二处于同一水平高度，所述支撑板一和所述支撑板二上支撑安装有所述内槽壁，所述内槽壁由四个侧面围成并形成起内部的所述石英缸槽，所述石英缸槽的底部固定安装有所述石英缸斜底。有益效果在于：本实用新型所述的兆声波清洗机的槽体结构适用于小物件的清洗，清洗频率更高，并且能量使用率高，浪费低。
基本信息
专利标题 ：
一种兆声波清洗机的槽体结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921882990.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-04
授权号 ：
CN210516687U
授权日 ：
2020-05-12
发明人 ：
李勇刚刘凯李宗颖张萍冯国春
申请人 ：
河北广创电子科技有限公司
申请人地址 ：
河北省廊坊市三河市燕郊开发区迎宾北路西侧、新禾公司、沃达公司北侧1#综合楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921882990.0
主分类号 ：
H01L21/673
IPC分类号 ：
H01L21/673 B08B3/12 B08B13/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2020-05-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
