一种单轴抛光机构
授权
摘要
本实用新型提供了一种单轴抛光机构，属于光学制造技术领域，包括刀柄和研抛组件，研抛组件与刀柄滑动连接，研抛组件能够沿刀柄的轴心线相对于刀柄滑动。本实用新型提供的单轴抛光机构结构简单，利用注气套将压缩气体注入刀柄上的滑槽后，可以带动研抛工具相对于刀柄移动，当研抛组件移动到合适的位置后，保持注气套内的压力稳定，可以对研抛组件的位置进行固定，固定后可以轻易得到具有利于面形修正的近高斯去除函数和利于匀滑的去除函数，从而使其去除效果与以往双旋转研抛工具一致，且研抛组件可以保证抛光刀具在运行过程中的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种单轴抛光机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921983430.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-15
授权号 ：
CN211220040U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
文中江钟波陈贤华张清华王健许乔
申请人 ：
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 ：
四川省成都市武侯区科园一路3号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
余菲
优先权 ：
CN201921983430.4
主分类号 ：
B24B13/00
IPC分类号 ：
B24B13/00 B24B45/00 B24B41/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B13/00
为磨削或抛光透镜上的光学表面和其他工件上相似形状表面设计的机床或装置及其附件
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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