一种便于清理的氧化锗反应容器
授权
摘要
本实用新型涉及反应容器技术领域，尤其是一种便于清理的氧化锗反应容器，包括底槽板，所述底槽板底部四角处均固定有支脚，所述底槽板上方插设有反应仓，所述反应仓上方放置有盖板，所述盖板和底槽板与反应仓接触处均固定有密封垫，所述反应仓下方两侧均开设有插槽，所述底槽板上方两侧壁均镶嵌有套管，所述套管内插设有插杆，所述插杆一端穿过底槽板侧壁并插设在插槽内，所述插杆另一端穿过套管并固定有拉杆.该反应容器通过将氧化锗放入反应仓内来进行反应。
基本信息
专利标题 ：
一种便于清理的氧化锗反应容器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921991187.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-18
授权号 ：
CN211612644U
授权日 ：
2020-10-02
发明人 ：
卢鹏荐曾小龙张林范永志李科
申请人 ：
武汉鑫融新材料有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区书城路26号B栋309室
代理机构 ：
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 ：
汤蔚莉
优先权 ：
CN201921991187.0
主分类号 ：
B01J19/00
IPC分类号 ：
B01J19/00 C01G17/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J19/00
化学的，物理的或物理—化学的一般方法；及其有关设备
法律状态
2020-10-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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