一种二氧化锗连续还原锗锭的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种二氧化锗连续还原锗锭的装置，包括：套管和上料调节组件；所述套管的内侧滑动设置有第一石墨舟和第二石墨舟，且第一石墨舟和第二石墨舟上均设置有铸锭槽；所述上料调节组件包括第一调节齿杆、第二调节齿杆和驱动齿盘，所述第一调节齿杆和第二调节齿杆平行滑动嵌入在套管的内侧底部。本实用新型中，在套管内侧底部设置上料调节组件，上料调节组件上的第一调节齿杆和第二调节齿杆分别于第一石墨舟和第二石墨舟进行连接，通过驱动齿盘配合第一调节齿杆和第二调节齿杆带动第一石墨舟和第二石墨舟移动至套管两侧开口外侧，便于进行上料和卸料，同时可以将两个石墨舟和移动回套管内侧固定，使用方便，提高工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种二氧化锗连续还原锗锭的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021390390.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-15
授权号 ：
CN213037827U
授权日 ：
2021-04-23
发明人 ：
唐安泰李建平
申请人 ：
昆明汇泉高纯半导材料有限公司
申请人地址 ：
云南省昆明市安宁市温泉镇白塔村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021390390.5
主分类号 ：
C22B41/00
IPC分类号 ：
C22B41/00 C22B5/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C22
冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理
C22B
金属的生产或精炼；原材料的预处理
C22B41/00
锗的提取
法律状态
2021-04-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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