两段还原挥发富集低品位锗精矿中锗的设备及方法
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摘要

本发明涉及锗回收提取技术领域,具体公开一种经两段还原挥发富集低品位锗精矿中锗的设备及方法,包括顺序连接的氮气供气设备、旋转式挥发炉、竖式还原炉和布袋收尘器,所述竖式还原炉还连接有氢气供气装置和盐酸处理池,将低品位锗精矿粉碎后加入还原剂,混合均匀,然后放入旋转式挥发炉中,将旋转式挥发炉,先进行氧化焙烧挥发以除去低温下易挥发物质,然后将旋转式挥发炉升温,进行锗的第一段还原挥发,挥发后的锗进入竖式还原炉,通入氢气还原后,得到含锗固体颗粒,在加入盐酸进行反应后分离得到锗金属,采用两段富集锗工艺,提高了锗精矿二次富集的富集倍数和锗精矿的品位,解决了后工序氯化提锗回收率下降、成本高、环境影响大等问题。

基本信息
专利标题 :
两段还原挥发富集低品位锗精矿中锗的设备及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113584307A
申请号 :
CN202110882537.5
公开(公告)日 :
2021-11-02
申请日 :
2021-08-02
授权号 :
CN113584307B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
熊浩普世坤张红潇柴皓茗邵雨萌尹国文罗中旭
申请人 :
云南大学;云南临沧鑫圆锗业股份有限公司
申请人地址 :
云南省昆明市翠湖北路2号
代理机构 :
昆明祥和知识产权代理有限公司
代理人 :
刘敏
优先权 :
CN202110882537.5
主分类号 :
C22B5/12
IPC分类号 :
C22B5/12  C22B41/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C22
冶金;黑色或有色金属合金;合金或有色金属的处理
C22B
金属的生产或精炼;原材料的预处理
C22B5/00
还原成金属的一般方法
C22B5/02
干法
C22B5/12
用气体
法律状态
2022-04-01 :
授权
2021-11-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C22B 5/12
申请日 : 20210802
2021-11-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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