还原炉
授权
摘要
本实用新型提供了一种还原炉，涉及多晶硅生产技术领域，该还原炉包括底盘以及设置于底盘的喷料组件；喷料组件包括进料环管，进料环管上设有多个用于向上喷出混合气体的进料喷嘴，多个进料喷嘴沿进料环管的周向设置，进料喷嘴包括喷嘴出口段，喷嘴出口段与竖直面之间呈夹角设置。通过该还原炉，解决了现有技术中存在的还原炉内的气场分布不均，导致多晶硅棒的生长环境不适宜，进而使产品质量较差的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
还原炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021461467.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-22
授权号 ：
CN212712772U
授权日 ：
2021-03-16
发明人 ：
施光明李宇辰王琳杨月龙童占忠陈宏博吉红平郭光伟蒲泽军
申请人 ：
亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请人地址 ：
青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张伟
优先权 ：
CN202021461467.3
主分类号 ：
C01B33/035
IPC分类号 ：
C01B33/035
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
硅
C01B33/021
制备
C01B33/027
使用除二氧化硅或含二氧化硅物料以外的气态或汽化的硅化合物的分解或还原
C01B33/035
在存在硅、碳或耐熔金属的热丝情况下，或在存在热硅棒情况下，用气态或汽化的硅化合物的分解或还原
法律状态
2021-03-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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