还原炉

授权

摘要

本实用新型涉及生产技术领域，尤其是涉及一种还原炉，包括对可见及红外光具有反射作用的光反射层和对可见及红外光具有透射作用的光透射层，所述光反射层包括靠近反应物料一侧的反射端面和另一侧的贴合端面，所述光透射层设置在所述反射端面上。能够避免光反射层在还原炉的间歇性运行中与空气中的氧气结合而在表面生成金属氧化膜，使得光反射层的反射性能急剧下降，无法长时间维持高的反射率的情况。

基本信息

专利标题：

还原炉

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022494674.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-11-02

授权号：

CN214299304U

授权日：

2021-09-28

发明人：

宗冰张宝顺任长春苏明录孟兵营

申请人：

亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司

申请人地址：

青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

冯洁

优先权：

CN202022494674.5

主分类号：

C01B33/035

IPC分类号：

C01B33/035