含锗煤灰挥发富集锗的装置
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摘要
一种含锗煤灰挥发富集锗的装置，采用多膛炉进行挥发富集锗，多膛炉包括：炉体，炉体内沿竖向分隔成多层炉膛，炉体顶部设有进料孔，炉体底部设有排料口，多个膛炉内部设有燃烧器，每层炉膛均设有烟气出口，各烟气出口连通至收尘系统，燃气燃烧使从进料口进入的锗煤灰球团颗粒在炉膛内发生还原反应，高价锗氧化物还原为低价锗氧化物从烟气出口进入收尘系统；靶动机构，包括沿中心穿透炉体的空心中心轴，以及在中心轴上对应每个炉膛延伸出的靶臂；第一鼓风机，与中心轴下端连通，第一鼓风机从中心轴下端鼓入的冷空气对中心轴及靶臂冷却后从中心轴上端排出。本实用新型无需添加碳酸钙、铁红来调配渣型，不会带来额外固体废弃物，冶炼能耗利用系数高。
基本信息
专利标题 ：
含锗煤灰挥发富集锗的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021848476.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
CN213388843U
授权日 ：
2021-06-08
发明人 ：
羡鹏飞杜国山唐建文
申请人 ：
中国恩菲工程技术有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区复兴路12号
代理机构 ：
北京鸿元知识产权代理有限公司
代理人 ：
董永辉
优先权 ：
CN202021848476.8
主分类号 ：
C22B41/00
IPC分类号 ：
C22B41/00 C22B7/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C22
冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理
C22B
金属的生产或精炼；原材料的预处理
C22B41/00
锗的提取
法律状态
2021-06-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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