一种电化学抛光中的支架抛光装置
授权
摘要

本实用新型属于电化学抛光技术领域,尤其为一种电化学抛光中的支架抛光装置,包括装置主体,装置主体的上端面开设有电解池,装置主体的后端面固定连接有背板,背板前端面的上端固定连接有滑杆,滑杆的下方安装有支架工件,背板的前端面安装有过滤网,过滤网的后侧安装有第一风机,第一风机的后端面安装有吸风管,吸风管的另一端连通有过滤箱,过滤箱的上端面连通有出风管,出风管位于吸风管的右侧;当支架工件没入电解池中进行电解抛光时产生废气,通过运行第一风机将废气从过滤网的前端吸入,接着废气进入过滤箱内部,并与箱内的除臭剂反应,然后由出风管排出,从而达到处理化学抛光过程中产生废气的效果。

基本信息
专利标题 :
一种电化学抛光中的支架抛光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922052329.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-25
授权号 :
CN211367792U
授权日 :
2020-08-28
发明人 :
朱贵兵
申请人 :
巢湖市宾雄医疗器械有限公司
申请人地址 :
安徽省巢湖市夏阁镇西峰集6号
代理机构 :
北京华仁联合知识产权代理有限公司
代理人 :
张换君
优先权 :
CN201922052329.3
主分类号 :
C25F3/16
IPC分类号 :
C25F3/16  C25F7/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法;其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
2020-08-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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