一种用于退偏器退偏性能高精度检测的光学系统
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摘要
一种用于退偏器退偏性能高精度检测的光学系统，包括光源、检测光路系统、退偏器放置平台、功率计以及波长计五部分；光源发射激光经检测光路透射被检退偏器后，聚焦到功率计中获得光能量；通过由V型槽三维调整平台构成的退偏器放置平台可以精确的实现退偏器正入射、斜入射两种情况的检测；由波长计可以实时的得到该次检测的入射光波长。整个检测光路系统一共由11种光学元件共12个组成，包括爬高镜、小孔光阑、毛玻璃镜片、平行光管、可调光阑、两个反射镜、光纤耦合镜、多模光纤、偏振分光棱镜、偏振片和聚焦透镜。
基本信息
专利标题 ：
一种用于退偏器退偏性能高精度检测的光学系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922066322.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-26
授权号 ：
CN211262667U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
曹恩达于勇赵一鸣李飞
申请人 ：
北京遥测技术研究所;航天长征火箭技术有限公司
申请人地址 ：
北京市丰台区北京市9200信箱74分箱
代理机构 ：
中国航天科技专利中心
代理人 ：
张晓飞
优先权 ：
CN201922066322.7
主分类号 ：
G01M11/02
IPC分类号 ：
G01M11/02 G01J4/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M11/02
•光学性质测试
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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