一种氮化硅生产用真空烧结炉
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摘要

本实用新型提供一种氮化硅生产用真空烧结炉,包括炉体,炉体的一侧密封铰接有炉门,炉体的一侧设有第一抽气管,第一抽气管的内部设有密封盖,第一抽气管上设有第二抽气管,第二抽气管的另一端连有抽气泵,炉体的顶部一侧设有氮气罐,氮气罐上连有氮气输送管,氮气输送管的另一端转动连接有第三管道,第三管道的另一端伸入到炉体的内部并与氮气布气管连通,氮气布气管的下侧设有多个布气支管,布气支管上设有若干出气口,炉体的顶部另一侧设有出气管,出气管上设有排气阀,出气管的另一端伸入到炉体顶部设有的水箱中,水箱的内部设有第一管道,第一管道的一端与出气管相连,第一管道的另一端连有第二管道,第二管道的另一端位于水箱的外部。

基本信息
专利标题 :
一种氮化硅生产用真空烧结炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922071415.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-27
授权号 :
CN211601529U
授权日 :
2020-09-29
发明人 :
朱万政王三忠高波田博袁玉涛曹村兵于海阔
申请人 :
天津炜润达新材料科技有限公司
申请人地址 :
天津市宝坻区经济开发区天通路1号
代理机构 :
天津市新天方专利代理有限责任公司
代理人 :
赵健康
优先权 :
CN201922071415.9
主分类号 :
F27B5/05
IPC分类号 :
F27B5/05  F27B5/06  F27B5/16  F27D17/00  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B5/00
马弗炉;干馏炉;其他炉料完全隔绝的炉
F27B5/04
适用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
F27B5/05
在真空中
法律状态
2020-09-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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