一种基于二硒化钼可饱和吸收体的被动锁模脉冲激光器
授权
摘要
本实用新型涉及一种基于二硒化钼可饱和吸收体的被动锁模脉冲激光器,该激光器包括半导体激光器、耦合透镜组、Nd:YVO4晶体、第一平凹镜、第二平凹镜、二硒化钼可饱和吸收体和输出镜;所述半导体激光器产生的连续光中心波长为808 nm,连续光依次经过耦合透镜组和Nd:YVO4晶体后入射到第一凹面镜,经第一凹面镜反射到达第二凹面镜,然后经反射到第二凹面镜二硒化钼可饱和吸收体,连续光经过二硒化钼可饱和吸收体后,经输出镜输出。该激光器在808 nm的激光照射下具有良好的非线性可饱和吸收特征,可以实现高能量、窄脉冲宽度、高峰值功率的脉冲激光输出。
基本信息
专利标题 :
一种基于二硒化钼可饱和吸收体的被动锁模脉冲激光器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922103816.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-29
授权号 :
CN211265961U
授权日 :
2020-08-14
发明人 :
常建华陈思成毛仁祥陈恬恬戴腾飞刘海洋戴瑞
申请人 :
南京信息工程大学
申请人地址 :
江苏省南京市江北新区宁六路219号
代理机构 :
南京汇盛专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
张立荣
优先权 :
CN201922103816.8
主分类号 :
H01S5/00
IPC分类号 :
H01S5/00 H01S5/065
法律状态
2020-08-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN211265961U.PDF
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