一种旋转磁场辅助激光熔覆头
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摘要
一种旋转磁场辅助激光熔覆头，包括与激光光路同轴设置的第一套筒、具有中心通孔的喷嘴，第一套筒的下端连接喷嘴的上端面，第一套筒的内壁设置有送粉管；喷嘴是回转体状，喷嘴的下部呈上大下小的圆台体状，喷嘴内具有送粉通道，送粉通道呈空心锥环状；第一套筒的外壁连接步进电机，步进电机驱动小齿轮；第一套筒的外壁通过内置轴承连接第三套筒，第三套筒上装有大齿轮，大齿轮与小齿轮啮合；第三套筒外侧安装若干个磁场发生装置，磁场发生装置的永磁铁块贴近喷嘴的环形喷口。本实用新型能够实现旋转磁场/静磁场与激光熔覆熔池同步耦合，多角度旋转磁场/静磁场激光熔覆，有效调控熔覆熔池流体运动、内部颗粒分布以及熔覆缺陷。
基本信息
专利标题 ：
一种旋转磁场辅助激光熔覆头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922136417.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-03
授权号 ：
CN211311594U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
姚建华胡勇王梁
申请人 ：
浙江工业大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市下城区潮王路18号
代理机构 ：
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 ：
王兵
优先权 ：
CN201922136417.1
主分类号 ：
C23C24/10
IPC分类号 ：
C23C24/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
C23C24/10
覆层中临时形成液相的
法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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