一种激光诱发脉冲原子束发生系统
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摘要
本发明的目的是提供一种激光诱发脉冲原子束发生系统，它能够产生的原子束种类多，并且原子束的纯度高、束流强度大、发散度和脉冲频率可调等特点。它包括聚焦透镜、镜面靶、激光靶、直流高压电源、角向镜架，Z向线性位移台、激光靶支撑架，抽气接口和真空室。本发明的有益效果在于：用激光轰击材料表面等离子体，等离子体中的正离子在加速电场作用下加速向同种材料构成的凹镜运动，这些正离子轰击材料表面发生自溅射，从而产生原子束。脉冲原子束的频率与激光脉冲的频率相同。这种原子束发生系统能够产生多种脉冲原子束，并且原子束具有纯度高，原子束流强度和发散度可调节，脉冲频率可调等特点。
基本信息
专利标题 ：
一种激光诱发脉冲原子束发生系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922153968.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-05
授权号 ：
CN211734459U
授权日 ：
2020-10-23
发明人 ：
孙平郑典麟张凯冯雷董春风
申请人 ：
核工业西南物理研究院
申请人地址 ：
四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号
代理机构 ：
核工业专利中心
代理人 ：
孙成林
优先权 ：
CN201922153968.9
主分类号 ：
C23C14/28
IPC分类号 ：
C23C14/28 C23C14/34
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
法律状态
2020-10-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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