一种高平面度大尺寸吸盘
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摘要
一种高平面度大尺寸吸盘，其包括上吸盘和下吸盘，所述上吸盘和下吸盘之间形成真空腔，所述上吸盘包括基板吸附面板，所述基板吸附面板包括多个连通至真空腔结构的通气孔，所述下吸盘外表面设有支撑板。通过支撑板结构保证了吸盘整体的支撑面积足够大，并承担绝大部分受力形变，从而减小了外界因素对吸盘工作表面的平面度的影响。
基本信息
专利标题 ：
一种高平面度大尺寸吸盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922158941.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-05
授权号 ：
CN210803975U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
刘栋张雷
申请人 ：
源能智创（江苏）半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市玉山镇南淞路111号华平（昆山）智造园B-6号厂房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922158941.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 F16B47/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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