曳光弹密封盂下料模

授权

摘要

本实用新型涉及模具领域，具体公开了曳光弹密封盂下料模，包括上模和下模，上模包括上模座、上垫板、上夹板、脱背板和脱料板，上模座、上垫板、上夹板、脱背板和脱料板从上到下依次固定连接，下模包括下模板、下垫板、下模座、下垫脚和下脱板，下模板、下垫板和下模座从上到下依次固定连接，下模座底面上侧固定连接有下垫脚，下脱板固定连接在下垫脚的底部，脱料板和下模板之间设有料带，料带横向两侧设有导料板，料带下方横向两侧均匀设有若干浮料销，料带下方设有吹起销，吹起销固定连接有管道，料带上方设有成形冲头，下模座内部设有弹簧，弹簧上方设有下模顶杆，解决传统的曳光弹密封盂二次定位不准和生产效率低的问题。

基本信息

专利标题：

曳光弹密封盂下料模

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922169870.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-06

授权号：

CN211757962U

授权日：

2020-10-27

发明人：

范朝富

申请人：

重庆中远工业（集团）有限公司

申请人地址：

重庆市巴南区界石镇石桂大道1号

代理机构：

北京挺立专利事务所(普通合伙)

代理人：

田黎绒

优先权：

CN201922169870.2

主分类号：

B21D37/08

IPC分类号：

B21D37/08 B21D28/02 B21D22/20