一种全反射式同轴LIBS激发收集系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种全反射式同轴LIBS激发收集系统，涉及光学设计技术领域，包括全反射分束单元、全反射聚焦单元和光纤耦合器；所述全反射分束单元设置于激光入射方向；所述全反射聚焦单元同轴设置于所述全放射分束单元的激光出射方向一侧；所述光纤耦合器位于所述全反射分束单元的旁路，并在光纤耦合器的聚焦焦点处设置光纤；所述全反向聚焦单元收集到的反向信号光通过所述全反射分光单元汇聚到光纤耦合器端面的聚焦焦点处。本实用新型所公开的一种全反射式同轴LIBS激发收集系统采用LIBS的激发和收集光路同轴，提高系统集成度；同时，LIBS的激发和收集光路同轴传输，可以保证信号采集点和激发点实时同步，提高信号稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种全反射式同轴LIBS激发收集系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922172105.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-06
授权号 ：
CN210720859U
授权日 ：
2020-06-09
发明人 ：
李强杨蕊竹叶小球陈长安吴吉良饶咏初王雪峰冯春蓉严俊
申请人 ：
中国工程物理研究院材料研究所
申请人地址 ：
四川省绵阳市江油市华丰新村9号
代理机构 ：
成都君合集专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
贾林
优先权 ：
CN201922172105.6
主分类号 ：
G02B17/06
IPC分类号 ：
G02B17/06 G01N21/71 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/02
反射光系统，例如，影像竖立和倒向系统
G02B17/06
只用反射镜的
法律状态
2020-06-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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