一种可调光学对位平台
授权
摘要
本实用新型涉及一种可调光学对位平台,具有机座及组装在机座上的装载平台,所述装载平台的四个方位均通过升降模块连接机座,且机座在其中三个方位中布设平移直线模块连接对应的升降模块,实现装载平台的三个方位相对平移调整;而剩下一个方位的升降模块直接固定在机座上,实现装载平台的定位。本实用新型实现装载平台的四个方位高度升降调整,以获得水平形态;且机座在其中三个方位中提供平移直线模块连接对应的升降模块,实现装载平台的三个方位相对平移调整,而剩下一个方位的升降模块直接固定在机座上,实现装载平台的定位,提供基点,实现X、Y、θ方向的调节。本实用新型结构简单,调节方便、稳定,准确性好。
基本信息
专利标题 :
一种可调光学对位平台
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922191112.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-10
授权号 :
CN211506166U
授权日 :
2020-09-15
发明人 :
余燕青甘泉
申请人 :
东莞市友辉光电科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市万江区拔蛟窝社区创业路工业区
代理机构 :
东莞市创益专利事务所
代理人 :
许彬
优先权 :
CN201922191112.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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