一种低雾度的叠层滤光片薄膜
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摘要
本实用新型涉及光学薄膜制备技术领域，尤其涉及一种低雾度的叠层滤光片薄膜，其特征在于：所述薄膜磁控溅射沉积于滤光片上，所述薄膜为滤光叠层，所述滤光叠层由若干层氧化铌钛高折射率层与低折射率层相互交替堆叠而成，其中所述氧化铌钛高折射率层作为所述滤光叠层的最内层沉积在所述滤光片上，所述低折射率层作为所述滤光叠层的最外层。本实用新型的优点是：利用氧化铌钛薄膜与低折射率材料相互堆叠，形成的100层以上10um厚度以上的超多层滤光叠层或者滤光片薄膜雾度非常小，总膜层的雾度可以做到0.2%以内；有效改善了目前超多层滤光片发雾的问题，使得滤光片的透过带的透过率有了明显的提高。
基本信息
专利标题 ：
一种低雾度的叠层滤光片薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922218122.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-12
授权号 ：
CN211375107U
授权日 ：
2020-08-28
发明人 ：
周斌干黎明
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN201922218122.9
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115 G02B5/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2020-08-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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