双面涂敷装置及涂膜形成系统
授权
摘要
本实用新型提供一种能够防止涂敷液的液体垂落的双面涂敷装置及涂膜形成系统。沿铅垂方向向上搬送基材。隔着基材沿水平方向相对配置有一对涂敷喷嘴。送至涂敷喷嘴的涂敷液从狭缝状的喷出口向移动的基材的表面背面喷出。涂敷喷嘴的上侧唇部与基材之间的上部间隔(D3)比喷出口的狭缝间隔(D1)狭小。另外，涂敷喷嘴的下侧唇部与基材之间的下部间隔(D2)比上部间隔(D3)狭小。在下侧唇部与基材之间形成的空间的压力损失大于在上侧唇部与基材之间形成的空间的压力损失，能够准确地防止来自下侧唇部与基材之间的涂敷液的液体垂落。
基本信息
专利标题 ：
双面涂敷装置及涂膜形成系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922232714.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-12
授权号 ：
CN211865543U
授权日 ：
2020-11-06
发明人 ：
冈田广司
申请人 ：
株式会社斯库林集团
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
隆天知识产权代理有限公司
代理人 ：
金辉
优先权 ：
CN201922232714.6
主分类号 ：
B05B13/02
IPC分类号 ：
B05B13/02 B05B16/20
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05B
喷射装置；雾化装置；喷嘴
B05B13/00
不包含在B05B1/00至B05B11/00各组中的，用喷射的方法在物体或其他工件的表面涂布液体或其他流体的机器或设备
B05B13/02
支撑工件的装置；喷头的配置或安装；进给工件装置的改进或配置
法律状态
2020-11-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211865543U.PDF
PDF下载
