形成涂膜的方法和装置
专利权的终止
摘要
一种形成涂膜的装置，其中包括：支撑一个面向上的基片，并使该基片围绕垂直轴旋转的旋转夹盘，供应涂覆液溶剂到基片上的第一喷嘴，和向基片中心部位供应涂覆溶液的第二喷嘴。第一和第二喷嘴由喷头支撑着，使支撑的喷嘴在基片上方滴加位置和偏置基片的等待位置之间移动。靠旋转夹盘的旋转，使溶剂和涂覆溶液沿基片的表面扩散。
基本信息
专利标题 ：
形成涂膜的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1102505A
申请号 ：
CN94104922.1
公开（公告）日 ：
1995-05-10
申请日 ：
1994-03-25
授权号 ：
CN1059967C
授权日 ：
2000-12-27
发明人 ：
长谷部圭藏藤本昭浩稻田博一饭野洋行北村晋治出口雅敏南部光宽
申请人 ：
东京电子株式会社;东京电子九州株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
王以平
优先权 ：
CN94104922.1
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 H01L21/312 B05C5/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2014-05-21 ：
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101582294800
IPC(主分类) : G03F 7/16
专利号 : ZL941049221
申请日 : 19940325
授权公告日 : 20001227
期满终止日期 : 20140325
号牌文件序号 : 101582294800
IPC(主分类) : G03F 7/16
专利号 : ZL941049221
申请日 : 19940325
授权公告日 : 20001227
期满终止日期 : 20140325
2001-07-04 ：
发明专利申请公开说明书更正
卷 : 无
号 : 无
页码 : 扉页
更正项目 : 优先权
误 : 缺优先权第9项
正 : [32]1993.12.28[33]JP[31]354052/93
号 : 无
页码 : 扉页
更正项目 : 优先权
误 : 缺优先权第9项
正 : [32]1993.12.28[33]JP[31]354052/93
2001-07-04 ：
发明专利公报更正
更正卷 : 无
号 : 无
页码 : 无
更正项目 : 优先权
误 : 缺优先权第9项
正 : [32]1993.12.28[33]JP[31]354052/93
号 : 无
页码 : 无
更正项目 : 优先权
误 : 缺优先权第9项
正 : [32]1993.12.28[33]JP[31]354052/93
2000-12-27 ：
授权
1995-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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