膜形成方法、膜形成装置及形成有膜的复合基板
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摘要

本发明提供一种能够减少膜表面的凹凸的膜形成方法。沿着基板表面的应形成膜的预定区域的边缘涂布油墨并使其固化而形成框部分。向预定区域的内部涂布油墨并使其固化,从而形成设置有未涂布有油墨的间隙的粗涂布部分。在形成了框部分及粗涂布部分之后,向粗涂布部分的间隙涂布油墨,并经过比形成框部分时的从油墨的涂布至固化为止的时间以及形成粗涂布部分时的从油墨的涂布至固化为止的时间均长的时间之后,使涂布于间隙中的油墨固化,从而形成覆盖预定区域的整个区域的膜。

基本信息
专利标题 :
膜形成方法、膜形成装置及形成有膜的复合基板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110095935A
申请号 :
CN201811423993.8
公开(公告)日 :
2019-08-06
申请日 :
2018-11-27
授权号 :
CN110095935B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
镒广诚
申请人 :
住友重机械工业株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
郝传鑫
优先权 :
CN201811423993.8
主分类号 :
G03F7/004
IPC分类号 :
G03F7/004  G03F7/039  G03F7/16  
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-10 :
授权
2019-08-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20181127
2019-08-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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