溶剂组合物、清洗方法和涂膜的形成方法

授权

摘要

本发明提供对各种有机物的溶解性优良、具有充分的干燥性且不会对地球环境造成不良影响的、经稳定化而不分解、并且抑制金属共存下的金属腐蚀的稳定的溶剂组合物，其能够在清洗或稀释涂布用途等广范围的工业用途中使用，不会对金属、塑料、弹性体等各种材质的物品造成不良影响。溶剂组合物包含溶剂(A)和稳定剂(B)，上述溶剂(A)包含(Z)‑1‑氯‑3,3,3‑三氟‑1‑丙烯；上述稳定剂(B)包含常压下的沸点为30℃以上60℃以下的HCFC。

基本信息

专利标题：

溶剂组合物、清洗方法和涂膜的形成方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112239704A

申请号：

CN202011108354.X

公开（公告）日：

2021-01-19

申请日：

2016-09-01

授权号：

CN112239704B

授权日：

2022-04-01

发明人：

中村允彦冈本秀一津崎真彰光冈宏明伊藤聪子

申请人：

AGC株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

董庆

优先权：

CN202011108354.X

主分类号：

C11D7/30

IPC分类号：

C11D7/30 C11D7/50 C11D11/00 C09D7/20 B08B3/08