一种金刚石复合膜结构
授权
摘要
本实用新型提供了一种金刚石复合膜结构，包括：基体材料层，底层，中间层和顶层；底层为掺杂硼的微米级金刚石晶粒层，目的为提高金刚石晶粒层的钉扎效应，解决涂层易脱落的问题；中间层包括中间层下层和中间层上层，中间层下层为微米级金刚石晶粒层，中间层上层为纳米级金刚石晶粒层，采用由下至上金刚石晶粒尺寸递减方式，目的为降低晶界处应力大小，改善层间应力大的问题；顶层设置在中间层上层表面之上，为纳米级金刚石晶粒层，目的为降低涂层的表面摩擦系数，解决涂层磨损量大的问题。本实用新型提供的金刚石复合膜结构稳定性好，不易脱落，可应用于许多耐磨性材料中。
基本信息
专利标题 ：
一种金刚石复合膜结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922233793.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-13
授权号 ：
CN211284530U
授权日 ：
2020-08-18
发明人 ：
陆峰李慧鑫王月瑶闫广宇
申请人 ：
沈阳建筑大学
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市浑南区浑南中路25号
代理机构 ：
沈阳东大知识产权代理有限公司
代理人 ：
李晴
优先权 ：
CN201922233793.2
主分类号 ：
C23C16/27
IPC分类号 ：
C23C16/27
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
C23C16/27
仅沉积金刚石
法律状态
2020-08-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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