一种双头抛光机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种双头抛光机构,包括:抛光槽组件,所述抛光槽组件包括左抛光槽机构、右抛光槽机构、支架抛光托架、溶液槽和溶液废料排液口,通过外壳本体、抛光电源调节控制面板、左支架装夹夹具、左支架升降机构、右支架装夹夹具、右支架升降机构、左抛光槽机构、右抛光槽机构、支架抛光托架、溶液槽、溶液废料排液口、加热管机构、温度感应机构、搅拌装置的设置,达到了共同共建一种双头抛光机构,其中抛光电源调节控制面板能够为该装置提供准确的控制程序,从而实现提高效率,提高精确度,左支架装夹夹具和右支架装夹夹具能够分别对支架进行固定,左支架升降机构和右支架升降机构能够对支架的位置进行调节。
基本信息
专利标题 :
一种双头抛光机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922251381.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-16
授权号 :
CN211570831U
授权日 :
2020-09-25
发明人 :
谭艳霞刘升董双波
申请人 :
辰邦医疗设备(上海)有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区泥城镇新城路2号24幢3864室
代理机构 :
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 :
郑丰平
优先权 :
CN201922251381.1
主分类号 :
C25F3/16
IPC分类号 :
C25F3/16
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法;其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
2020-09-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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