本实用新型公开了一种双头分级单晶硅双面抛光机构包括研磨机主体，所述研磨机主体的内部设置有支撑板，所述支撑板的下方对称设置有四个万向球，所述支撑板的上方在位于研磨机主体的内部对称设置有四个支撑臂，四个所述支撑臂的上方对称设置有两个连接杆，两个所述连接杆上设置有一个调节丝杆，所述研磨机主体的下端对称设置有四个支撑脚。本实用新型所述的一种双头分级单晶硅双面抛光机构，属于半导体设备领域，通过设置可升降的支撑板以及万向球，可以便于抛光机移动的同时又不影响其放置的稳定性；通过设置支撑臂、连接杆，可以便于推动支撑板、万向球上升或下降；通过设置调节丝杆，可以便于推动连接杆移动，从而最终提高了抛光机的实用性。