本发明公开了一种单晶硅片抛光设备及其抛光方法，涉及单晶硅片生产技术领域，包括安置座和抛光组件，所述安置座的上端左侧中部设置有上料输送带，且安置座的上端右侧中部设置有下料输送带，所述安置座的上端靠近边缘处设置有固定框。本发明实现对单晶硅片的双面有效抛光工作，实现单晶硅片上料、送料、抛光及清理的自动一体化作业，不需要工作人员手动对单晶硅片进行上下料，保证单晶硅片抛光作业安全性的同时，有效提升单晶硅片的实际抛光效率，不需要对单晶硅片进行翻转即可实现单晶硅片的双面抛光工作，减少单晶硅片的抛光时长，可以有效对抛光过程中产生的细屑进行收集，避免细屑残留在作业面上对单晶硅片的抛光精度造成影响。