一种单晶硅单面抛光机用抛光机构
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摘要

本实用新型公开了一种单晶硅单面抛光机用抛光机构,包括底座、紧固结构、安装板、抛光轮、收集结构,所述底座的上端固定安装有紧固结构,所述紧固结构上端的一侧固定安装有安装板,所述安装板的底端固定安装有抛光轮,所述底座上端的一侧固定安装有收集结构。本实用新型,通过转动盘带动滑块转动,使得固定杆带动紧固块紧固单晶硅,且同时通过转动外壳上端,使得紧固块带动单晶硅进行转动,从而使得紧固块将单晶硅放置在传送板的表面,继而使得紧固块进行循环作业,继而提高了工作效率,通过电机带动转动杆转动,使得连接块带动收纳槽进行升降工作,从而使得收纳槽进行收纳工作,继而减少划伤硅片的现象,从而提高单晶硅片的质量。

基本信息
专利标题 :
一种单晶硅单面抛光机用抛光机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021754868.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-20
授权号 :
CN213289859U
授权日 :
2021-05-28
发明人 :
陈峰
申请人 :
浙江众晶电子有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路5号
代理机构 :
温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
钱磊
优先权 :
CN202021754868.8
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B41/06  B24B41/00  B24B55/00  B24B41/02  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-05-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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