一种多功能可调节式单晶硅单面抛光设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种多功能可调节式单晶硅单面抛光设备,包括支腿、底座、夹具、抛光组件和废料收集组件,所述支腿的顶部固定安装有底座,所述底座的顶部表面固定安装有夹具,所述底座的顶部设置有抛光组件所述底座的底部设置有废料收集组件,所述抛光组件包括左侧支撑架、安装架、齿轮、驱动电机、传动轮、右侧支撑架、安装板、抛光电机、抛光轮、限位杆、套环、齿条板和滑杆。本实用新型通过设置的抛光组件,使其在使用时能够根据不同单晶硅的的规格进行高度调节,从而保证抛光的质量,其结构简单,易于实现,通过设置的废料收集组件,使其在使用时能够将加工过程中产生的废屑有效收集,且方便清理。

基本信息
专利标题 :
一种多功能可调节式单晶硅单面抛光设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021754935.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-20
授权号 :
CN213106227U
授权日 :
2021-05-04
发明人 :
陈峰
申请人 :
浙江众晶电子有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路5号
代理机构 :
温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
钱磊
优先权 :
CN202021754935.6
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B41/06  B24B47/22  B24B55/06  B24B55/12  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-05-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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