抛光设备和抛光方法
公开
摘要
本发明实施例公开了一种抛光设备和抛光方法。所述抛光设备包括：抛光台；设置在所述抛光台的上表面上的抛光垫；用于驱动所述抛光台旋转的驱动轴；设置在所述抛光台的上方空间的抛光头和喷嘴组件；其中，所述喷嘴组件包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴用于向所述抛光垫的中央区域喷洒第一抛光液，所述第一抛光液通过所述抛光台的旋转被分布在整个所述抛光垫上，所述第二喷嘴用于向所述抛光垫的边缘区域喷洒第二抛光液，以在所述边缘区域处提供大于所述中央区域处的抛光去除量。
基本信息
专利标题 ：
抛光设备和抛光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114290231A
申请号 ：
CN202111654099.3
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
白宗权
申请人 ：
西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
代理机构 ：
西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李斌栋
优先权 ：
CN202111654099.3
主分类号 ：
B24B37/10
IPC分类号 ：
B24B37/10 B24B37/30 B24B57/02 B24B7/22 H01L21/67 H01L21/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/04
适用于加工平面的
B24B37/07
以工件或研具的运动为特征
B24B37/10
用于单侧研磨
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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