一种抛光设备抛光液循环的防溅装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种抛光设备抛光液循环的防溅装置，包括：固定轴套、挡水圈、下水槽和扫光盘垫板，所述下水槽套设在所述固定轴套上，并与所述扫光盘垫板连接，所述挡水圈设置在所述下水槽上。本实用新型提供的抛光设备抛光液循环的防溅装置通过挡水圈和下水槽的设置，解决下水槽在高速旋转时，抛光液隔空流入下水槽容易发生外溅的问题，成本低，安装方便，缩短设备的维护与清洁时间，延长设备使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种抛光设备抛光液循环的防溅装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021418779.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-17
授权号 ：
CN213225744U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
高令谭志强李叶明张红超张建国
申请人 ：
深圳西可实业有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道浪心社区洲石路49号凯欣达科技园厂房一西座一楼西北面B侧
代理机构 ：
深圳信科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴军
优先权 ：
CN202021418779.6
主分类号 ：
B24B57/00
IPC分类号 ：
B24B57/00 B24B55/00 B24B29/02
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B57/00
磨削抛光或研磨剂的进料，加料，分选或回收设备
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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