一种抛光液供给装置、抛光头及抛光设备
公开
摘要
本发明实施例公开了一种抛光液供给装置、抛光头及抛光设备；所述装置包括：围绕抛光头的头部主体布设于所述抛光头的外壳下部的多个抛光液供给口、为每个所述抛光液供给口提供抛光液输送通道的第一抛光液管道、以及向所述第一抛光液管道提供抛光液的抛光液供给罐；其中，每个所述抛光液供给口均能朝向抛光垫滴加抛光液；每条所述第一抛光液管道根据所述外壳的形状沿竖直方向布设。
基本信息
专利标题 ：
一种抛光液供给装置、抛光头及抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114536209A
申请号 ：
CN202011326232.8
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
白宗权
申请人 ：
西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区西沣南路1888号
代理机构 ：
西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
沈寒酉
优先权 ：
CN202011326232.8
主分类号 ：
B24B37/07
IPC分类号 ：
B24B37/07 B24B37/34 B24B57/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/04
适用于加工平面的
B24B37/07
以工件或研具的运动为特征
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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